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Labortechnik und Anlagen


Wafer in Horizontalofen © LS MNE ​/​ TU Dortmund

Analytik

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Typ:   

Ellipsometer


Beschreibung:     

Schichtdickenmessung und Parameterextraktion


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Rasterelektronenmikroskop (REM)


Beschreibung:     

Bis zu 10 nm Auflösung, InLens und SE-Detektor


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Rasterelektronenmikroskop (REM)

mit PointElectronic Elektronik Upgrade und Raith ELPHY Quantum 


Beschreibung:     

Bis zu 10 nm Auflösung mit einem 4k Imaging-System und Topologiedarstellung, InLens-, SE- und BSE-Detektor


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Digitales Lichtmikroskop


Beschreibung:     

Bis zu 5000-fache Vergrößerung


Status:           

Voll funktionsfähig 

Typ:   

Systemmikroskop


Beschreibung:     

Optisches UIS2/UIS (Universal Infinity System)-System


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Konfokalmikroskop


Beschreibung:     

Konfokales Lasermikroskop


Status:           

Voll funktionsfähig 

Typ:   

Konfokalmikroskop


Beschreibung:     

Konfokales Lasermikroskop


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Profilometer


Beschreibung:     

Oberflächenprofilometrie bis 262 µm


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Strukturbreitenmesssystem


Beschreibung:     

Laser-Autofokus


Status:           

Voll funktionsfähig 

Typ:   

UV-VIS Spektrometer


Beschreibung:     

Spektralphotometrie


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

EDX System


Beschreibung:     

Low-KV EDX-System, ≤127eV @ MnKα, Detektion der Elemente ab Beryllium (Z=4)


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Elektrische Messtechnik

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

4-Spitzen-Messplatz


Beschreibung:     

Flächenwiderstandsmessung auf Probenstücken und Wafern


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Spitzenmessplatz


Beschreibung:     

Lichtgeschützter Aufbau mit Vakuum-Chuck (8 Messnadeln)


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Parameter Analyser


Beschreibung:     

Precision Semiconductor Paramter Analyzer


Status:           

Voll funktionsfähig 

Typ:   

Waferprober


Beschreibung:     

Vollautomatischer Waferprober zur statistischen Vermessung von Bauelementeparametern


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Ätzanlagen

Oxford PlasmaPro 100 ICP Gaspod und End-Point Detektor © LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Inductive Coupled Plasma (ICP), Reaktives Ionenätzen (RIE) 


Beschreibung:     

12 ver­schie­de­ne Gaslinien, Fluor- Chlor und Brom-Pro­zes­se, End-Point Detektion


Status:           

Inbetriebnahme 

Typ:   

Inductive Coupled Plasma (ICP), Reaktives Ionenätzen (RIE) 


Beschreibung:     

Fluor- und Chlor-Pro­zes­se


Status:           

Inbetriebnahme 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Reaktives Ionenätzen (RIE) 


Beschreibung:     

Chlorprozesse: SF6, Cl2, CHF4, SiCl4, N2; Fluorprozesse:SF6, O2, Ar, CHF3, N2


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Reaktives Ionenätzen (RIE) 


Beschreibung:     

Fluorprozesse: SF6, O2, Ar, CHF3, N2


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Plasmaverascher


Beschreibung:     

Ätzen im Sauerstoffplasma, maximal 8 Zoll Wafer


Status:           

Voll funktionsfähig 

Implantations- und Dotierungstechnologie

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Ionenimplanter


Beschreibung:     

Dotierung mit einer Flächendosis von bis zu 10e16 cm-2und max. 350 keV.


Status:           

Voll funktionsfähig 

Memory Array für Associative Capacitive Networks © Stefan Tappertzhofen ​/​ Cambridge University

Lithografie

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Hersteller/Typ:   

Optisches Belichtungssystem


Beschreibung:     

Strukturweiten bis 0,6 um auf 4 Zoll-Substrat


Status:           

Voll funktionsfähig 

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Typ:   

Optisches Belichtungssystem


Beschreibung:     

Strukturweiten bis 0,6 um auf 4 Zoll-Substrat


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Elektronenstrahllithografie


Beschreibung:     

Strukturgrößen bis zu 10 nm auf Die-Substraten, Laserinterferometer gesteuertes Stitching


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Elektronenstrahllithografie

mit PointElectronic Elektronik Upgrade und Raith ELPHY Quantum Lithografie-Erweiterung


Beschreibung:     

Strukturgrößen bis zu 10 nm auf Die-Substraten


Status:           

Voll funktionsfähig 

Typ:   

Direktbelichter


Beschreibung:     

300 nm minimale Strukturauflösung


Status:           

Wird gewartet   

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Belackungssystem, Spincoater


Beschreibung:     

Bis 200 mm Wafer bei 0 - 12000 UPM


Status:           

Voll funktionsfähig 

Typ:   

Belackungssystem Spincoater


Beschreibung:     

Bis 200 mm Wafer bei 0 - 12000 UPM (Silikone)


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Schichterzeugung

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)


Beschreibung:     

Schichtenerzeugung mittels chemischer Gasphasenabscheidung


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Low-pressure chemische Gasphasenabscheidung (LPCVD)


Beschreibung:     

Abscheidung von Si3N4, PolySi, TEOS und Borphosphorsilicatglas


Status:           

Wird gewartet

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Reaktive Magnetron-Sputteranlage


Beschreibung:     

Physikalische Abscheidung von Schichten (u.a. Al, Ti [ TiN reaktiv], Ni, Si)


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Reaktive Magnetron-Sputteranlage


Beschreibung:     

Abscheidung von ITO, Lanthanhexaborid, Samarium, Yttrium und Bismuttellurid


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Aufdampfanlage


Beschreibung:     

Al- und Cr-Target vorhanden


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Diffusions- und Oxidationsöfen


Beschreibung:     

Oxidation (nass und trocken), H2 und N2 Temperung,LTO-Abscheidung


Status:           

Voll funktionsfähig

In TMAH strukturierte Siliziumoberfläche © LS MNE ​/​ TU Dortmund

Nassbänke

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Nassätzbank


Beschreibung:     

Nassätzprozesse für SiO2, Si3N4, Al und Au


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Entwicklerbank


Beschreibung:     

Lackentwicklung (AZ-Lacke, PMMA etc.)


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Reinigungsbank


Beschreibung:     

Waferreinigung SC1, SC2


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Rohrwaschanlage


Beschreibung:     

Reinigung für Horizontalöfen


Status:           

Voll funktionsfähig 

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Spin Rinser


Beschreibung:     

k.A.


Status:           

Voll funktionsfähig 

Reinraum

Typ:   

Fan-Filter-Units


Beschreibung:     

Laminar-Flow Bereiche an sämtlichen Arbeitsbereichen


Status:           

Werden teilweise gewartet

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Hersteller/Typ:   

DEOS OPEN 500EMS, Carrier 30RA160B, 158kW Kühlleistung,Vapac LE90 Elektrodenbefeuchter


Beschreibung:     

Luftaufbereitung nach ISO 14644, 21,0°C, 45%rF, 12 PaÜberdruck


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

SPS gestützte Sonderanfertigung


Beschreibung:     

O2, N2, Ar, Cl2, SiCl4, H2, N2O, CF4, CHF3, SF6, NH3, SiH4/Ar, SiH2Cl2


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Reinstwasseranlage


Beschreibung:     

Reinstwasser-Bereitstellung (UV behandelt)


Status:           

Voll funktionsfähig

Rückstände nach Transfer von hexagonalen Bor-Nitrid © Stefan Tappertzhofen ​/​ Cambridge University

Sonstiges

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Eigenentwicklung


Beschreibung:     

Stereolithografie nach CAD-Modell für diePrototypenentwicklung


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Eigenentwicklung


Beschreibung:     

Sample-To-Sample Transferprozesse von 2D-Nanomaterialien


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Wafersäge


Beschreibung:     

Wafergröße 25.4 - 152.4 mm, Waferdicke 10 - 5000 um, Blattrotation 15000 - 45000 UPM


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Schnüffellecksucher


Beschreibung:     

Portable Leak Detector


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Schnüffellecksucher


Beschreibung:     

Portable Helium Leak Detector


Status:           

Voll funktionsfähig

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:   

Rapid Thermal Annealing


Beschreibung:     

Rapid Thermal Annealing bis 1200°C in Ar, H2, N2Atmohsphäre, bis 6 Zoll


Status:           

Wird gewartet  

Hersteller/Typ:   

Einzeldraht-Ultraschall-Bonder


Beschreibung:     

k.A.


Status:           

Voll funktionsfähig     

Typ:  

Flip Chip Bonder


Beschreibung:     

C4 Galvanische Lotabscheidung (Bumps)


Status:           

Im Aufbau     

© LS MNE ​/​ TU Dortmund

Typ:  

Dickdraht Ultraschall-Bonder


Beschreibung:     

Dickdraht (400μm) Ultraschall-Bonder


Status:           

Voll funktionsfähig    

Anfahrt & Lageplan

Der Campus der Technischen Universität Dortmund liegt in der Nähe des Autobahnkreuzes Dortmund West, wo die Sauerlandlinie A45 den Ruhrschnellweg B1/A40 kreuzt. Die Abfahrt Dortmund-Eichlinghofen auf der A45 führt zum Campus Süd, die Abfahrt Dortmund-Dorstfeld auf der A40 zum Campus-Nord. An beiden Ausfahrten ist die Universität ausgeschildert.

Direkt auf dem Campus Nord befindet sich die S-Bahn-Station „Dortmund Universität“. Von dort fährt die S-Bahn-Linie S1 im 20- oder 30-Minuten-Takt zum Hauptbahnhof Dortmund und in der Gegenrichtung zum Hauptbahnhof Düsseldorf über Bochum, Essen und Duisburg. Außerdem ist die Universität mit den Buslinien 445, 447 und 462 zu erreichen. Eine Fahrplanauskunft findet sich auf der Homepage des Verkehrsverbundes Rhein-Ruhr, außerdem bieten die DSW21 einen interaktiven Liniennetzplan an.
 

Zu den Wahrzeichen der TU Dortmund gehört die H-Bahn. Linie 1 verkehrt im 10-Minuten-Takt zwischen Dortmund Eichlinghofen und dem Technologiezentrum über Campus Süd und Dortmund Universität S, Linie 2 pendelt im 5-Minuten-Takt zwischen Campus Nord und Campus Süd. Diese Strecke legt sie in zwei Minuten zurück.

Vom Flughafen Dortmund aus gelangt man mit dem AirportExpress innerhalb von gut 20 Minuten zum Dortmunder Hauptbahnhof und von dort mit der S-Bahn zur Universität. Ein größeres Angebot an internationalen Flugverbindungen bietet der etwa 60 Kilometer entfernte Flughafen Düsseldorf, der direkt mit der S-Bahn vom Bahnhof der Universität zu erreichen ist.