Atomlagen-Depositions-Anlage
Im Rahmen des Projekts wurde eine Anlage zur thermischen Atomlagen-Deposition (Atomic Layer Deposition, ALD) für Substratgrößen bis zu 200 mm beschafft. Mit den hierdurch zur Verfügung stehenden Prozessen sollen insbesondere funktionale (z.B. multiferroische oder memristive) Oxide und Nitride und katalytisch wirksame Metalle abgeschieden werden.
Diese Materialien finden Anwendung in neuartigen elektronischen Bauelementen und Schaltungen unter anderem im Bereich der Informationstechnologie, Photonik, Mikrofluidik und der Mikro- und Nanosystemtechnik. Die geplanten innovativen Forschungsvorhaben lassen sich nur unter Ausnutzung der spezifischen Depositionseigenschaften einer ALD-Anlage, wie präziser Schichtdickenkontrolle, exakt einstellbarer Stöchiometrie, hohem geometrischem Aspektverhältnis und geringer Depositionstemperatur und -energie, erfolgreich durchführen.
Im Rahmen dieses Antrags sollen dabei zunächst Fragestellungen und Projekte von Nutzinnern und Nutzern aus der Physik, der Elektrotechnik und Informationstechnik sowie dem Bio- und Chemieingenieurwesen adressiert werden. Auf diese Weise wird die ALD-Anlage eine Schlüsselfunktion für exzellente fakultätsübergreifend Projekte einnehmen und mittelfristig die Basis für weitere interdisziplinäre Synergien bilden.
DFG Forschungsgroßgeräte nach Art. 91b GG
- Titel: Atomlagen-Depositions-Anlage
- Projektnummer: 471301649
- Projektlaufzeit: Seit 2022
- Finanzierung: 50 % DFG, 40 % Land NRW, 10 % TU Dortmund
